ナノマテリアルと分子ナノテクノロジーのジャーナル

化学蒸着法（CVD）による多層グラフェンの成長と特性評価

ダッタ D、ハズラ A、ダス J、ハズラ SK、ラクシュミ VN、シンハ SK、ジャノンチェリ A、サルカール CK、バス S

化学蒸着法（CVD）による多層グラフェンの成長と特性評価

ナノ構造のグラフェンは、科学技術のさまざまな分野で多用途に使用できる潜在的な材料であることが証明されています。単層グラフェンの成長は真の課題ですが、最近では数層および多層グラフェンも非常に有用であることが証明されています。本研究では、熱酸化シリコン基板上に堆積した銅 (Cu) 触媒膜を使用して、1000°C、大気圧で、CH4:H2:N2=15:5:300 (SCCM 中) の比率で高純度水素と混合したメタン (CH4) を分解することにより、熱 CVD 法で多層グラフェン薄膜を成長させました。